【48812】曼恩斯特请求冷却组件、磁控溅射阴极及真空镀膜设备专利专利技能能在不影响正常冷却功用的前提下缩短磁场产生件与靶材之间的间隔进步溅射功率

  曼恩斯特请求冷却组件、磁控溅射阴极及真空镀膜设备专利，专利技能能在不影响正常冷却功用的前提下缩短磁场产生件与靶材之间的间隔，进步溅射功率

  金融界2024年4月26日音讯，据国家知识产权局公告，深圳市曼恩斯特科技股份有限公司请求一项名为“冷却组件、磁控溅射阴极及真空镀膜设备“，公开号CN117926198A，请求日期为2023年12月。

  专利摘要显现，本发明触及真空镀膜技能领域，详细触及一种冷却组件、磁控溅射阴极及真空镀膜设备。水冷组件包含外壳，底壁的外表面向冷却腔内洼陷并构成凹槽，并在冷却腔内构成凸起；凸起的顶面与顶壁的内外表之间具有空隙，空隙左右两边设置有分隔结构，分隔结构用于间隔空隙的左右两边与冷却腔；凸起的前、后端设置进液口和出液口。磁场产生件装置于凹槽，可以缩短磁场产生件与靶材之间的间隔，进步溅射功率。设置空隙并在空隙的左右两边设置分隔结构，以及将进液口和出液口设置于凸起的前后两头，可避开部分温度过高而导致铟焊料消融。相较于现存技能，冷却组件可以在不影响正常冷却功用的前提下缩短磁场产生件与靶材之间的间隔，进步溅射功率。